이슈분석

중국 노광장비, 다섯 대로 무엇을 만들 수 있나

중국이 국산 침지식 심자외선 노광기 소량 생산을 시작했다는 보도의 사실관계를 정리한다. 25대는 두 해를 합친 계획치이고 제조사 이름은 공개되지 않았다. 공개된 사양을 ASML 세대별 수치와 대조해 무엇이 같고 무엇이 비어 있는지, 그리고 이 보도가 미국 수출규제 법안과 어떻게 맞물리는지 확인한다. 매매 판단은 제시하지 않는다.

중국이 국산 침지식 노광기 소량 생산을 시작했다. 25대는 두 해를 합친 숫자이고, 만든 회사의 이름은 아직 공개되지 않았다.

하룻밤 사이에 벌어진 일

7월 27일 미국 매체 디인포메이션이 중국의 한 국유 지원 기업이 침지식 심자외선 노광기 생산을 시작했다고 보도했다. 로이터와 블룸버그가 이를 받아 썼다. ASML 주가는 7% 넘게 밀려 6월 초 이후 최저치로 내려앉았고, BE세미컨덕터가 8.5%, 소이텍이 5% 함께 빠졌다12. ASML은 논평을 거부했다1.

보도된 계획은 올해 약 다섯 대, 2027년에 약 스무 대다. 인도처는 SMIC와 화훙반도체, 그리고 지난주 상하이 증시에 데뷔한 CXMT다1. 중국어권 보도도 “올해 첫 양산 5대”로 같은 숫자를 전한다3.

25대는 두 해에 걸친 계획의 합계다. 숫자만 떼어내 옮기면 올해 물량으로 읽히기 쉽다. 올해분은 다섯 대다.

국산 노광기가 거쳐야 하는 단계와 현재 위치시험 장비 반입2025년 9월SMIC 시험 가동소량 생산 개시2026년 약 5대제조사 이름 비공개팹 검증수율·가동률처리량 확인양산 라인 투입2027년 목표시험 장비와 생산 장비가 같은 물건인지는 확인되지 않았다출처: 로이터·디인포메이션(2026-07-27)
자체 제작 차트 · 매매 판단 지표 아님 · 출처: 로이터

그리고 이 보도에는 처음부터 비어 있는 칸이 하나 있다. 로이터는 “사안의 민감성 때문에 소식통이 제조사를 밝히지 않았다”고 적었다1. 장비를 만든 회사의 이름이 공개되지 않았다.

이 글은 그 다섯 대가 무엇을 할 수 있고 무엇이 아직 확인되지 않았는지 정리하고, 이 보도가 실제로 가장 크게 울리는 곳이 암스테르담 증시가 아니라 워싱턴이라는 점을 짚는다. 특정 종목의 목표가나 매매 판단은 제시하지 않는다.

다섯 대라는 숫자의 크기

ASML은 지난해 침지식 노광기만 131대를 팔았다. 건식을 포함한 심자외선 장비 전체로는 279대이며, 2024년의 374대에서 줄어든 수치다10.

침지식 심자외선 노광기 연간 대수04080120160ASML 2025년 출하131중국 2027년 계획20중국 2026년 계획5단위: 대ASML 연차보고서 · 로이터 보도 계획치
자체 제작 차트 · 매매 판단 지표 아님 · 출처: ASML 연차보고서

다섯 대는 ASML이 작년 한 해 판 침지식 장비의 스물여섯 분의 일이다. 내년 계획인 스무 대를 얹어 두 해를 합쳐도 작년 ASML 출하량의 5분의 1에 못 미친다.

이 대비는 조롱이 아니라 이 뉴스를 읽는 단위다. 노광은 웨이퍼 한 장이 층마다 되돌아오는 반복 공정이고, 팹의 생산량은 대체로 보유한 노광기 대수와 그 처리량의 곱으로 제약된다. 다른 공정 장비와 달리 노광기는 대수가 곧 병목이라는 뜻이다.

그래서 다섯 대를 캐파 증설로 읽기는 어렵다. 로이터도 이 장비가 “성능과 신뢰성에서 뒤처지며 양산 전에 추가 시험이 필요하다”고 전했다1. 앞서 SMIC가 2025년 9월부터 국산 시험 장비를 돌리기 시작했을 때도, 칩의 안정성과 수율이 일정 수준에 오르는 데만 최소 1년이 걸린다는 관측이 나왔고8, 고량 양산 투입까지는 최소 2년이라는 업계 추정이 붙었다7.

장비를 만들기 시작한 것과 그 장비가 팹의 양산 라인에 들어가는 것은 다른 사건이다. 이번 보도는 앞의 것이다.

사양표에서 비어 있는 칸

시장이 가장 크게 오해하는 지점은 장비의 종류다. EUV가 아니다. 침지식 심자외선, 즉 ArF 광원을 쓰면서 렌즈와 웨이퍼 사이를 물로 채워 해상력을 올린 방식이다. ASML이 20년 가까이 팔아온 물건이고, 미국 제재로 중국에 막힌 최상급 기종이 바로 이 계열이다.

익명 제조사의 장비 사양은 공개되지 않았다. 다만 2025년 9월 SMIC가 시험 가동을 시작한 국산 침지식 장비에 대해서는 파이낸셜타임스가 전한 수치가 있다. 상하이 위량성이 만든 것으로 보도된 장비다. 이 장비와 지금 생산에 들어간 장비가 같은 물건인지는 확인되지 않았다. 아래 표는 그 전제를 달고 읽어야 한다.

항목위량성 시험 장비(2025년)NXT:1950i(2008년)ASML 이후 세대출처
렌즈 개구수1.351.351.35 그대로4 5 6
단일 노광 해상도38나노38나노38나노 그대로4 5 6
장비 단독 겹침 정확도2.5나노2.5나노0.9나노(NXT:2100i)4 5 19
시간당 웨이퍼미공개200장 이상295장(NXT:2050i)5 6

앞의 두 줄이 같다. 이것을 위량성이 ASML을 따라잡았다는 뜻으로 읽으면 거꾸로 읽는 것이다. 저 두 줄이 같은 이유는 침지식 노광의 광학 성능이 그 자리에서 멈춰 있기 때문이다. 개구수 1.35는 물을 매질로 쓰는 방식의 상한으로 남아 있고, ASML의 최신 침지식 기종도 같은 개구수에 같은 해상도를 쓴다6. 이 천장 위로 올라가려면 파장 자체를 바꾸는 것, 즉 EUV로 가는 수밖에 없었다.

그래서 ASML이 그 뒤 18년 동안 끌어올린 것은 해상도가 아니다. 겹침 정확도와 처리량이다. 장비 단독 겹침 정확도는 2.5나노에서 0.9나노로 내려갔고19, 시간당 웨이퍼는 200장 이상에서 295장으로 올라갔다56.

하필 그 두 줄이, 중국 장비에서 각각 2008년 수준이거나 아예 비어 있는 줄이다.

이 공백은 사소하지 않다. 뒤에서 보겠지만 겹침 정확도와 처리량은 멀티패터닝이 정확히 갉아먹는 두 가지다.

멀티패터닝이라는 단어에 붙는 비용

보도마다 따라붙는 문장이 있다. 28나노 단일 노광이 기본이지만 멀티패터닝을 쓰면 7나노, 극단적으로는 5나노까지 가능하다는 것이다. 방향은 맞다. SMIC가 이미 그 방식으로 7나노급을 만들었고, 국내 반도체 전문지도 SMIC의 7나노가 ArF 침지식 장비의 더블패터닝이라고 확인했다9. TSMC도 EUV 이전에는 같은 길을 걸었다. 다만 시험 장비를 두고 나온 이 전망에 대해, 실제 그 노드에 쓸 수 있을지는 입증되지 않았고 장비의 상당한 개선이 필요할 수 있다는 단서가 함께 달렸다4.

멀티패터닝은 한 번에 그리지 못하는 선을 여러 번 나눠 그리는 기법이다. 그리고 여기에는 두 가지 비용이 붙는다.

첫째는 단계 수다. 삼성전자가 공개한 비교에서 7나노 공정을 심자외선 멀티패터닝으로 구현하면 마스크가 80장을 넘고, EUV를 도입하면 60장 수준으로 줄어든다20. 노광 단계가 늘어난다는 말은 같은 장비 대수로 뽑을 수 있는 웨이퍼가 줄어든다는 뜻이다. 멀티패터닝은 노광기 대수를 생산능력으로 환산할 때 분모를 키운다.

둘째는 겹침 정확도다. 나눠 그린 선들은 서로 정확히 맞물려야 하고, 노광을 겹칠 때마다 정렬 오차가 쌓인다. 멀티패터닝에서 수율을 결정하는 것은 해상도가 아니라 겹침 정확도다. 앞 표에서 본 2.5나노와 0.9나노의 차이가 여기서 값을 치른다519.

정리하면 이렇다. 시간당 처리량이 공개되지 않은 장비로, 2008년 수준의 겹침 정확도를 가지고, 노광을 여러 번 겹치는 공정을 하겠다는 것이다. 성능의 상한을 말하는 문장이 동시에 대당 생산성이 어디까지 내려가는지를 말하고 있다.

원가와 수율에서도 같은 압력이 확인된다. SMIC의 5나노급 웨이퍼 원가가 TSMC 대비 50% 높고 수율이 33% 수준까지 떨어진다는 기관 추정이 전해졌다14. 국산 장비로 바꾸면 여기에 가동률과 정비 주기라는 변수가 하나 더 붙는다.

상하이가 15년 전에 한 번 했던 발표

중국 노광기 발표에는 전례가 있다. 상하이마이크로전자, SMEE다. 이 회사는 2011년에 SSA600/10 시제기의 성능 시험 결과를 공개했다. 그리고 13년이 지나도록 이 장비의 판매는 사실상 없었고 중국 팹의 대량 생산 라인에 쓰이지 않았다18.

이 이력이 이번 건도 실패한다는 뜻은 아니다. 시험 장비를 만든 위량성은 SMEE와 달리 화웨이와 신카이라이 계열의 자금과 인력을 등에 업고 있고, 부품 대부분을 중국 안에서 조달한다고 보도됐다7. 다만 이 전례는 무엇을 기준으로 판정해야 하는지를 알려준다.

시제기 공개도, 팹 반입도, 소량 생산도 판정 기준이 아니다. 판정 기준은 그 장비로 만든 웨이퍼가 팔리는지다. 중국 노광기 소식은 지난 15년간 앞의 세 단계에서 여러 번 나왔고, 마지막 단계가 공개적으로 확인된 사례는 아직 없다.

이번 보도의 확인 상태를 같은 잣대로 늘어놓으면 이렇게 된다.

자립이 확정됐다면 있어야 할 것현재 상태
제조사 이름비공개
제조사 공식 발표확인되지 않음
인도 대수 확인익명 소식통 보도
시험 장비와의 동일성확인되지 않음
시간당 처리량미공개
웨이퍼 수율과 장비 가동률미공개
양산 라인 투입2027년 목표
그 라인 제품의 출하확인되지 않음

여덟 줄 가운데 값이 적힌 칸은 목표 연도 하나다.

진짜 표적은 ASML이 아니다

시장은 이 뉴스를 ASML의 매출 훼손으로 읽고 주가를 눌렀다. 그런데 ASML의 중국 매출은 이미 줄어드는 중이었다.

ASML 시스템 매출의 지역 비중 변화013.52740.5543619중국2245한국2025년 4분기2026년 1분기단위: %출처: ASML 2026년 1분기 실적자료
자체 제작 차트 · 매매 판단 지표 아님 · 출처: ASML 1분기 실적자료

중국 매출 비중은 2025년 연간 33%였고, 회사는 2026년에 약 20%로 내려간다고 안내했다. 미국의 수출규제와 함께 앞선 선구매 수요가 소진된 것이 이유로 함께 꼽혔다13. 실제 올해 1분기 시스템 매출에서 중국은 19%였다. 직전 분기의 36%에서 반토막이 났다. 같은 기간 한국은 22%에서 45%로 올라 ASML의 최대 시장이 됐다12.

중국이 국산 노광기 다섯 대를 인도하기도 전에, 중국은 이미 ASML 시스템 매출의 5분의 1로 줄어 있었다. 이번 보도가 앞으로 잠식할 수 있는 몫은 그 잔여분이다.

그렇다면 이 보도의 무게는 어디에 실려 있나. 워싱턴이다.

올해 4월 2일 미국 하원에 매치법이 발의됐고 상원 동반 법안이 뒤따랐다. 이 법은 SMIC와 화웨이, 화훙, CXMT, YMTC를 대상 시설로 지목하고, 네덜란드와 일본에 150일 안에 규제를 미국 기준에 맞추라고 요구한다. 주목할 것은 수정 과정이다. 초기 법안에 함께 담겼던 극저온 식각 장비의 전면 금지는 삭제됐고, 침지식 심자외선 노광기만 중국 전역을 대상으로 하는 유일한 장비 수출금지 품목으로 남았다11. 하원 위원회는 4월 22일 수정안 보고를 의결했고, 본회의 처리는 아직 확인되지 않았다.

이 법안이 국가 단위 금지 품목으로 딱 하나 남겨둔 장비를, 표적 국가가 스스로 만들기 시작했다는 보도가 나온 것이다. 법안이 위원회를 막 통과한 시점에.

이 글의 판단은 이렇다. 이 보도가 사실이라면 매치법은 통과되기도 전에 유일한 표적을 잃고, 과장이라면 중국은 법안 논의를 흔드는 데 성공한 것이 된다. 어느 쪽이든 이 보도가 가장 크게 울리는 곳은 ASML 주주총회가 아니라 미국 의회다. 제조사 익명, 회사 침묵, ASML 무응답이라는 조합은 그 해석과 어긋나지 않는다. 다만 이것은 보도된 취재원 진술이 아니라 정황을 놓고 내린 해석임을 밝혀둔다.

한국이 봐야 할 자리

국내 투자자에게 이 뉴스가 닿는 경로는 두 갈래다.

첫째는 CXMT다. 인도처 명단에 이 회사가 들어 있고, 지난주 상하이 증시 데뷔 첫날 장중 한때 시가 대비 454.5% 오르며 시가총액 3조2100억위안, 우리 돈 약 695조원을 기록했다15. 이 기대에 “장비까지 자립”이 얹히면 밸류에이션은 더 붙는다.

그러나 산수를 보면 순서가 맞지 않는다. CXMT의 D램 캐파는 2025년 말 월 26만5000장에서 올해 말 35만장, 2028년 50만장으로 늘어날 것이라는 외부 기관 추정이 나와 있다16. 이 규모의 증설을 노광기 다섯 대가 뒷받침할 수는 없다. 그 다섯 대는 세 회사에 나눠 들어가고, 그중 일부다.

국산화는 증설이 아니라 대체를 겨냥한다. 규제로 장비 공급이 끊겼을 때를 대비한 보험에 가깝다. 한국 메모리에 대한 압력은 CXMT의 캐파 계획과 가격 정책에서 나오지 노광기 다섯 대에서 나오지 않는다.

둘째는 ASML의 고객 구성이다. 1분기에 한국이 ASML 시스템 매출의 45%를 차지했다12. 국내 반도체가 그만큼 사들이고 있다는 뜻이고, 최선단 장비 확보 경쟁에서 지금 한국의 자리는 나쁘지 않다.

장기 전망은 다르게 봐야 한다. 중국의 상용 7나노급 침지식 심자외선을 2030년대 중반, 상용 EUV를 2030년대 후반 무렵으로 보는 예측이 나와 있다. 확정된 산업 일정이 아니라 한 연구 그룹의 전망치다17. 같은 자료는 진짜 병목이 노광기 본체가 아니라 광학계와 광원, 그리고 감광액이라고 짚는다. 중국의 고급 감광액 국산 공급 비중은 1% 미만으로 추정된다17. 노광기 한 대를 완성하는 일과 그 노광기를 매일 돌리는 공급망을 갖추는 일은 다른 문제다.

무엇을 확인하면 되나

이 사안은 앞으로 몇 분기에 걸쳐 판정된다. 확인할 지점은 넷이다.

첫째, 제조사의 이름과 공식 확인이다. 지금은 익명이다. 상장사인 SMIC와 화훙, CXMT의 공시나 실적 발표에서 국산 장비 도입이 언급되는지가 첫 관문이다.

둘째, 내년의 스무 대가 계획대로 나오는지다. 다섯 대에서 스무 대로 가는 구간은 시제 생산과 양산 제조의 경계이며, SMEE가 넘지 못한 자리이기도 하다.

셋째, 그 장비로 만든 제품이 출하되는지다. 장비 대수가 아니라 웨이퍼가 판정 기준이다.

넷째, 매치법의 처리 경과다. 이 법이 통과되면 중국은 자립을 서두를 이유가 더 커지고, 좌초하면 ASML의 중국 매출에 남은 잔여분의 수명이 늘어난다.

정리하면 이렇다. 중국은 침지식 노광기 소량 생산을 시작했고 올해 약 다섯 대를 인도할 계획이며, 25대는 내년까지의 누적 목표다. 장비 등급은 EUV가 아니라 침지식이고, 만든 회사의 이름도 시간당 처리량도 공개되지 않았다. 그럼에도 이 보도가 하룻밤 사이 유럽 장비주를 흔든 이유는 장비의 성능이 아니라, 미국이 국가 단위 금지 품목으로 딱 하나 남겨둔 것의 이름이 바로 그 장비였기 때문이다.

참고 기사

  1. China Begins Domestic DUV Chipmaking Tool Production, Report Says — Reuters, 2026-07-27
  2. ASML Shares Drop After Report of China Producing DUV Chipmaking Tools — Bloomberg, 2026-07-27
  3. 国产浸没式DUV光刻机开始小批量生产,今年首批量产5台 — PANews, 2026-07-27
  4. China’s largest chipmaker testing first homegrown immersion DUV litho tool — Tom’s Hardware, 2025-09
  5. ASML launches TWINSCAN NXT:1950i immersion lithography system — ASML, 2008
  6. TWINSCAN NXT:2050i 제품 사양 — ASML
  7. SMIC Begins Testing Domestic Immersion DUV Lithography Tool — SemiWiki, 2025-09
  8. 中 SMIC, 첫 중국산 DUV 노광장비 시험 가동 — 아주경제, 2025-09-17
  9. SMIC 7nm 공정 진짜 개발했나 — 디일렉
  10. ASML Holding NV Form 20-F FY2025 — 미국 증권거래위원회
  11. Congress moves to strip the DoC of chip-export discretion with the MATCH Act — Tom’s Hardware, 2026-04
  12. ASML Q1 2026 slides: raised guidance targets €36-40B revenue — Investing.com, 2026-04-15
  13. ASML Expects China Revenue Drop Following Backlog-Fueled Surge — Caixin Global, 2026-01-29
  14. Decoding China’s Lithography Push to Challenge ASML — TrendForce, 2025-11-10
  15. 중국 창신메모리, 상장 첫날 대박 — 이데일리 마켓인, 2026-07-27
  16. 中 CXMT 상장 초읽기, 삼전닉스에 영향 정말 클까 — 서울경제
  17. A forecast of Chinese DUV and EUV photolithography progress — AI Futures
  18. Lithography chapter, DPC 2024 — Jan-Peter Kleinhans
  19. TWINSCAN NXT:2100i 제품 사양 — ASML
  20. 삼성 SEMICON West 발표 정리 — EE Times Japan, 2016

이 글은 공개된 보도와 기업 자료를 정리한 것으로 투자 권유가 아닙니다. 개별 투자 상담을 제공하지 않으며, 특정 종목의 목표가나 매매 판단을 제시하지 않습니다. 투자 판단과 그 결과에 대한 책임은 투자자 본인에게 있습니다.